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我国科学家研究出一种分米级单晶薄膜的制备新方式
2019-07-17 10:13:18 | 【 【打印】【封闭】

  为斥地硅基电子器件之外的新路子,基于量子材料的新器件研究成为前沿热点。作为量子材料的次要分支,二维量子材料厚度只需原子级且量子效应显著,大面积、高质量的二维单晶制备是完成二维器件规模化使用的核心环节,然而晶格的非核心反演对称性给二维单晶成长带来了极大挑战。  

  在量子调控与量子消息重点专项赞助下,北京大学刘开辉课题组与互助者设想出一种具有特殊台阶标的目的的非核心反演对称性的单晶晶面Cu(110)/<211>,把持其台阶边缘与六方氮化硼晶畴中硼型和氮型锯齿形鸿沟耦合强度的能量差打破晶畴在衬底概况取向的对称性,从而完成对六方氮化硼晶畴单一取向的节制成长,并无缝拼接为分米级单晶薄膜。研究又一次连系原位成长技术与理论算计对成长过程进行了深刻动力学研究,提出了全新的成长机理。该研究工作供给了一种制备二维单晶的普适方式,为二维器件规模化使用奠基了底子。

  

 

  把持对称性破缺衬底外延二维六方氮化硼单晶(Nature 570, 91(2019))

   

    文章文章地址:中华人民共和国科学技术部

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